膜厚儀的原理及選擇

膜厚儀的原理及選擇

        除了精密的測量儀器二次元與三坐標之外，在測量薄膜厚度時，我們還會經常的使用一種儀器，就是膜厚儀。

　    膜厚儀又叫膜厚計、膜厚測試儀，可分為磁感應鍍層測厚儀、電渦流鍍層測厚儀與熒光X射線儀鍍層測厚儀。 它的主要測量方法是采用磁感應原理時，利用從測頭經過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。

　    磁性測厚法的膜厚儀是一種超小型測量儀，它能快速，無損傷，地進行鐵磁性金屬基體上的噴涂。電鍍層厚度的測量。可廣泛用于制造業，金屬加工業，化工業，商檢等檢測領域。特別適用于工程現場測量。

　    二次熒光法的測厚儀的原理是物質經X射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩定的狀態。從不穩定狀態要回到穩定狀態，此物質必需將多余的能量釋放出來，而此時是以熒光或光的形態被釋放出來。熒光X射線鍍層厚度測量儀或成分分析儀的原理就是測量這被釋放出來的熒光的能量及強度，來進行定性和定量分析。

　    膜厚儀的選擇

　    首先取決于你所測產品的結構。如果只是簡單的涂層，銅箔使用普通的膜厚儀就可以解決了。如果測電鍍層的厚度，而且具有幾層鍍層，那么就要使用x-射線膜厚儀。單鍍層厚度大于0.5um的還可以采用金相法觀察。